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2012-10-01 23:49:05 | 人氣23| 回應0 | 上一篇 | 下一篇

汎銓科技汎銓 半導體材料分析專家

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做為半導體產業尖端製程技術研發分析的長期夥伴,汎銓科技對於客戶委託的分析服務內容視為最高機密,嚴格保密的作業流程是汎銓讓客戶放心委託分析的一大原因,另一方面,汎銓以最先進的設備與成熟專精的分析技術,提供優良的服務而獲得客戶選擇與信賴。   汎銓成立7年以來一直著力於半導體產業的分析服務,專注於材料分析及IC電路修補,建置高解析度FE-SEM、FIB、TEM等材料結構分析儀器,OBIRCH、InGaAs等電性故障分析儀器及IC設計電路修補儀器等先進設備,協助客戶找出缺陷和故障成因,加速產品商業化。主力客戶包含IC Design House、FAB、半導體設備商及LED產業等。   材料分析部門主管周學良表示,隨著28奈米及以下先進製程需求熱絡,汎銓引進Dual Beam FIB 450S(雙粒子束聚焦式離子束顯微切割儀)及高對比TEM(穿透式電子顯微鏡)等全球最先進的材料分析機台,分析技術可達20奈米以下製程需求水準,超前同業,實驗室設備或人員的技術能力,完全跟上最先進製程的腳步。   汎銓擁有最高SEM(掃描式電子顯微鏡)解析度(0.9nm@1KV)及超高解析TEM(穿透式電子顯微鏡)點解析(0.19nm@ 200KV),可提供20nm以下先進製程的分析。最先進的低角度背像電子(LaBe)影像技術,可供超低電壓材料的表面對比,及高量子效應的成分分析(EDS)先進偵測器,提高Mapping速度與空間解析度達次微米(SEM小於1um)及次奈米(TEM小於1nm)水準。   在電性故障分析方面,則引進OBIRCH 最先進的數位Lock-in技術,提升訊號對雜訊比,增加缺陷偵測成功率及定位精準度。   IC電路修補部門主管李基榮表示,在40nm及以下先進製程的線路修補面臨介電層(ILD, inter layer dielectric)結構與材料脆弱的問題,容易受到離子束打擊損傷,造成電路短路或阻抗改變,IC無法正常運作,電路修補的良率偏低。汎銓研發新的電路修補工法與沈積特殊材料技術,用來減少離子束轟擊時間與補強受到離子束轟擊損傷的電路。此技術運用於先進製程的線路修補,良率大幅上升,有效縮短設計工程師Debug的時間,深獲IC設計公司好評。   汎銓近2年營收穩定成長,即使第四季景氣看法趨於保守,但一線大廠在下世代技術的研發仍如火如荼展開,汎銓在機台設備及人員技術經驗方面已做好萬全準備,有信心以專業及熱忱的服務,讓客戶滿意。   汎銓電話(03)666-3298,網址:www.msscorps.com,2012國際半導體展參展攤位號碼406。 <擷錄經濟> 您若有【汎銓科技】或任何【未上市股票】的資訊提供或交流,歡迎您來電指教。 ☎ 0917-559-001 ~陳先生~歡迎來電~! 或上http://www.wa8088.com/ 未上市股票相關資訊查詢~未上市股價諮詢~未上市買賣問題

台長: 未上市陳先生
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