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應用材料公司創新的圖案成形技術將降低先進晶片製造的成本、複雜性和環境影響性

應用材料公司今天發佈一項突破性的圖案化 （patterning） 技術，可協助晶片製造商以更少的EUV微影步驟生產高效能的電晶體和內連佈線 （interconnect wiring），進而降低先進晶片製程的成本、複雜性和環境影響性。為了最佳化晶片的面積和成本，愈來愈多客戶運用極紫外光雙重圖案化技術 （EUV double-pat...
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新聞台: AccessUs | 台長：正平公關
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